წიგნების ძებნა
წიგნები
დახმარება
შესვლა
შესვლა
ავტორიზებულ მომხმარებლებს აქვთ წვდომა:
პერსონალური რეკომენდაციები
Telegram ბოტი
ჩამოტვირთვის ისტორია
გაგზავნეთ Email-ზე ან Kindle-ზე
კრებულების მართვა
შენახვა რჩეულებში
პირადი
წიგნის მოთხოვნა
შესწავლა
Z-Recommend
წიგნების სარჩევი
ყველაზე პოპულარული
კატეგორია
მონაწილეობა
დახმარება
ატვირთვები
Litera Library
ქაღალდის წიგნების შეწირვა
ქაღალდის წიგნების დამატება
Search paper books
ჩემი LITERA Point
საკვანძო სიტყვების ძებნა
Main
საკვანძო სიტყვების ძებნა
search
1
Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition
CRC Press
Yoshio Nishi
,
Robert Doering
wafer
figure
technology
silicon
semiconductor
surface
crc12a
dk4126
xml
temperature
manufacturing
film
gate
layer
oxide
thermal
rate
materials
etch
thickness
anbarasan
deposition
handbook
device
current
processing
dielectric
devices
wafers
electron
plasma
films
growth
shown
analysis
chemical
effect
systems
density
voltage
substrate
processes
effects
diffusion
oxygen
defects
reliability
optical
formation
measurement
წელი:
2007
ენა:
english
ფაილი:
PDF, 74.08 MB
თქვენი თეგები:
0
/
0
english, 2007
2
Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology
CRC Press
Yoshio Nishi
,
Robert Doering
wafer
figure
technology
silicon
semiconductor
surface
crc12a
dk4126
xml
temperature
manufacturing
film
gate
layer
oxide
thermal
rate
materials
etch
thickness
anbarasan
deposition
handbook
device
current
processing
dielectric
devices
wafers
electron
plasma
films
growth
shown
analysis
chemical
effect
systems
density
voltage
substrate
processes
effects
diffusion
oxygen
defects
reliability
optical
formation
measurement
წელი:
2007
ენა:
english
ფაილი:
PDF, 74.09 MB
თქვენი თეგები:
0
/
5.0
english, 2007
1
მიჰყევით
ამ ბმულს
ან Telegram-ში მოძებნეთ „@BotFather“ ბოტი
2
გაგზავნეთ ბრძანება /newbot
3
შეიყვანეთ თქვენი ბოტის სახელი
4
შეიყვანეთ მომხმარებლის სახელი ბოტისთვის
5
დააკოპირეთ BotFather-ისგან ბოლო შეტყობინება და ჩასვით აქ
×
×